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マスク合成
最先端のリソグラフィ・ソリューション
マスク合成は、開発およびバッチのユース・モデルの両方のためのリソグラフィ・ツールで構成されています。Proteusのバッチ・ツールは、フルチップの光学近接効果補正（OPC）、インバース・リソ技術（ILT）、および修正後のICレイアウト・パターンのプロセス・チェックと解析のための包括的で強力な環境を提供します。
開発ユース・モデル用には、ProteusおよびSentaurus Lithographyは、緊密に統合され、製品化期間を短縮する最高の精度と予測性を提供します。シノプシスのマスク合成ツールは、20年近く業界で検証され、最先端のIDMやファウンダリで導入されているツールです。